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如何為高低溫循環(huán)設備添加液體介質(zhì)?

更新時間:2025-01-08  |  點擊率:1102
  高低溫循環(huán)設備主要用于玻璃反應器、金屬反應器和生物反應器的溫度控制和恒溫控制。該系統(tǒng)采用全封閉循環(huán),通過冷卻和加熱傳熱介質(zhì),達到控溫的目的。
  
  設備有冷卻箱和冷卻塔兩種。沿著冷卻塔,風機常常用來促進蒸發(fā),冷卻水常常被吹走。因此敞開式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)務必供貨談水。因為揮發(fā)、冷卻循環(huán)水濃縮,濃縮全過程推動鹽份污垢(見沉積物操縱)。補充水具備稀釋液功效,其總流量自始至終由循環(huán)水濃度值限定值決策。
  
  那么如何為高低溫循環(huán)設備添加液體介質(zhì)呢?
  
  1、在使用加熱制冷循環(huán)中,排氣是相對堿性的,液體填充和排空同時進行。裝置中的液體位于裝置的頂部,閉合順時針,逆時針,排氣閥位于器件的一側(cè),可以將輔助工具用入長孔,然后順時針和逆時針關閉。
  
  2、液體添加時,請注意必要的保護措施,戴橡膠手套,護目鏡和麥形塞等,以確保傳熱介質(zhì)符合系統(tǒng)要求(溫度范圍,粘度,腐蝕性和毒性)。如果存在少量沉淀物,請等待其穩(wěn)定,不要在系統(tǒng)中添加沉淀物。
  
  澆注時,請注意溢出,始終注意裝置側(cè)面的觀察鏡,以防止電氣柜中照明的照明溢出并導致污染。在添加液體之前,檢查相關管道是否已*打開,并且關閉器件漏極關閉。
  
  3、添加液體介質(zhì)時,逆時針打開潤滑脂蓋,插入漏斗注入傳熱介質(zhì),將液體添加到水平級別,并在排空時逆時針打開排氣閥,單擊空頭并填充設備觸摸屏上的按鈕控制頁面。
 

 

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